半導体

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半導体製造における地震対策ハンドブック

販売価格(税込)： 49,500 円

■体裁:B5版263ページ
■発刊:1996/11/28
■ISBNコード:4-947655-94-1

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Gビット時代へのリソグラフィ技術

販売価格(税込)： 11,000 円

■体裁:A4版174頁
■発刊:1995/03/28
■ISBNコード:4-89808-051-0

数量：

半導体用特殊ガス供給システムデザインマニュアル

販売価格(税込)： 27,500 円

■体裁:B5版335ページ
■発刊:1999/01/28
■ISBNコード:4-89808-013-8

数量：

シリコン結晶・ウェーハ技術の課題

販売価格(税込)： 41,800 円

■体裁:B5版346ページ
■発刊:1994/01/28
■ISBNコード:4-947655-65-8

数量：

SOI CMOSデバイスの基礎と応用

販売価格(税込)： 35,200 円

■体裁:A4版113ページ
■発刊:1999/10/28
■ISBNコード:4-89808-018-9

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ULSI製造における汚染の実態

販売価格(税込)： 57,200 円

■体裁:A4版475ページ
■発刊:1999/07/28
■ISBNコード:4-89808-017-0

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高性能半導体プロセス用分析・評価技術

販売価格(税込)： 31,900 円

■体裁:B5版233ページ
■発刊:1992/05/28
■ISBNコード:4-947655-53-4

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半導体デバイス界面の汚染・損傷の評価と対策

販売価格(税込)： 49,500 円

■体裁:B5版222ページ
■発刊:1992/02/28
■ISBNコード:4-947655-50-X

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超高純度ガスの科学2　データ編

販売価格(税込)： 60,500 円

■体裁:B5版634頁
■発刊:1994/04/28
■ISBNコード:4-947655-67-4

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超高純度ガスの科学1　コンセプト編

販売価格(税込)： 56,100 円

■体裁:B5版367ページ
■発刊:1993/12/28
■ISBNコード:4-947655-64-X

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新版 シリコンウェーハ表面のクリーン化技術

販売価格(税込)： 57,200 円

■体裁:B5版468ページ
■発刊:2000/05/28
■ISBNコード:4-89808-023-5

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極薄シリコン酸化膜の形成と界面評価技術

販売価格(税込)： 31,900 円

■体裁:A4版144ページ
■発刊:1997/01/28
■ISBNコード:4-947655-95-X

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ガスサイエンスが拓くプロタクト・イノベーション

販売価格(税込)： 5,500 円

■体裁:A5版362ページ
■発刊:1996/01/28
■ISBNコード:4-947655-81-X

数量：

低消費電力、高速LSI技術

販売価格(税込)： 61,600 円

■体裁:A4版560ページ
■発刊:1998/01/28
■ISBNコード:4-89808-004-9

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半導体製造におけるクローズドシステム

販売価格(税込)： 27,500 円

■体裁:B5版283ページ
■発刊:1991/11/28
■ISBNコード:4-947655-47-X

半導体製造のためのClosed Manufacturing System

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