商品コード: RLB100095

最新プラズマプロセスのモニタリング技術と解析・制御

販売価格(税込): 30,800
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■体裁:A4版174ページ
■発刊:1997/08/28
■ISBNコード:4-947655-98-4

【執筆者】
林 康明 京都工芸繊維大学/ 中野俊樹 防衛大学校/
堀 勝 名古屋大学/ 豊田浩孝 名古屋大学/
林 康明 京都工芸繊維大学/ 白藤 立 京都工芸繊維大学/
林 康明 京都工芸繊維大学

※所属、肩書き等は本書発刊当時のものです。

【序文】
電子工業のこの半世紀間の目覚ましい発展は周知のとおりであるが,その中で特に真空を利用した薄膜材料作製や加工プロセス技術が大きな役割を果たしてきた。従来のウェットな材料プロセスが物理的あるいは化学的ドライプロセスに置き代わり,純度や制御性の良いプロセスが可能となったからである。さらに,真空中でのプロセスを低温で効率的にあるいは熱的非平衡状態で進行させることのできるプラズマ化学反応プロセスが,20~30年ほど前より注目され始めてきている。

【目次】
第1章 プラズマプロセスの制御とモニタリング
1.1章 低温プラズマの基礎
1.低温プラズマの物理
1.1 グロー放電
1.2 シースの形成
2.プラズマ化学反応による材料プロセス
2.1 ラジカルの発生
2.2 ラジカルの輸送
2.3 ラジカルの表面反応
2.4  薄膜材料プロセスへの応用
1.2章 プラズマプロセスの制御
1.プラズマプロセスの特徴
1.1 プラズマプロセスの特徴
1.2 プラズマプロセスの課題
2.プラズマプロセスの制御
2.1 プラズマの発生と制御
2.2 反応プロセスの制御
1.3章 プラズマプロセスのモニタリング方法
1.プラズマの診断
2.気相中のラジカルのモニタリング
3.表面のモニタリング
4.気相中のダストのモニタリング

第2章 インプロセスモニタリング技術と解析・制御
2.1章 レーザ誘起蛍光法による気相の解析
1.はじめに
2.レーザ誘起蛍光法の原理
2.1 光の吸収・放出
2.2 レーザ誘起蛍光強度
2.3 レーザ誘起蛍光法による絶対密度の算出
2.4 レーザ誘起蛍光法の特徴
2.5 レーザ誘起蛍光法により計測可能な物理量
3.レーザ誘起蛍光法による計測の装置構成
3.1 波長可変レーザ
3.2 蛍光検出系
4.プラズマプロセスにとって重要な活性種の計測例
4.1 ラジカルの計測
4.2 原子の計測
4.3 イオンの計測
4.4 シース電界の計測
5.将来への展望
2.2章 赤外半導体レーザ吸収分光法による気相の解析・制御
1.赤外半導体レーザ吸収分光法の原理
1.1 赤外吸収分光の基礎
1.2 赤外半導体レーザ吸収分光法の特徴
1.3 赤外半導体レーザ吸収分光法によるプラズマ中の ラジカル計測システム
2.赤外半導体レーザ吸収分光法によるプラズマ中の
2.1 CVDプロセスにおけるラジカルの解析例
2.2 エッチングプロセスにおけるラジカルの解析例
3.気相中のラジカルの制御方法
4.将来への展望
2.3章 紫外・可視吸収分光法による気相の解析・制御
1.はじめに
2.吸収分光に関する基礎事項
3.原子吸光分光による原子のモニタリングと解析
3.1 原子吸光分光法における実験装置と原子密度評価
3.2 原子吸光分光法によるモニタリングおよび解析例
4.レーザ吸収分光法による原子モニタリングと解析
4.1 波長可変リング色素レーザの吸収分光への応用
4.2 波長可変リング色素レーザを用いたSiH4プラズマのモニタリングおよび解
析例
5.連続スペクトル光源を用いた吸収分光によるラジカルのモニタリング
5.1 連続スペクトル光源を用いた吸収分光の適用範囲
5.2 測定装置およびデータ処理法
5.3 モニタリングおよび解析例
6.まとめと展望
2.4章 質量分析法による気相の解析・制御
1.はじめに
2.質量分析の種類と原理
2.1 磁場偏向型質量分析器
2.2 四重極質量分析器
2.3 飛行時間型質量分析器
2.4 イオンサイクロトロン共鳴質量分析器
3.質量分析器を用いたイオンのモニタリングと解析
3.1 正イオンのモニタリング
3.2 負イオンのモニタリングおよび解析例
4.出現質量分析法を用いた中性ラジカル種のモニタリングと解析
4.1 出現質量分析におけるラジカル検出の原理
4.2 出現質量分析における装置構成
4.3 ラジカル密度の絶対較正
4.4 モニタリングおよび解析例
5.まとめと展望
2.5章 偏光解析法による表面の解析・制御
1.偏光解析の原理と装置
1.1 偏光解析法の原理
1.2 偏光解析法の特徴
1.3 偏光解析装置
1.4 インプロセスモニタとしての装置
2.プラズマプロセスの解析と制御
2.1 プラズマプロセスの解析
2.2 プラズマプロセスの制御
3.まとめと今後の展望
2.6章 フーリエ変換赤外吸収分光法による表面の解析・制御
1.はじめに
2.フーリエ変換赤外分光法 FT-IR
2.1 光源
2.2 干渉計
2.3 外部光路
2.4 炭酸ガスと水の影響
2.5 偏光子
2.6 窓
2.7 検出器
3.全反射吸収分光法 ATR
3.1 原理
3.2 その場計測への適用例
4.高感度反射分光法 RAS
4.1 原理
4.2 その場計測への適用例
5.偏光変調高感度反射分光法 PM-RAS
5.1 原理
5.2 計測上の注意
6.偏光解析法 PME
6.1 原理
6.2 光学系
6.3 PM-RASとPMEの比較
6.4 その場計測への適用例
7.まとめ
2.7章 ダストのモニタリングと解析・制御
1.プラズマ中のダスト
1.1 プラズマプロセスにおけるダストの問題
1.2 プラズマ中のダストの発生と挙動
2.気相中のダストのモニタリング方法
2.1 光散乱を利用する方法
2.2 静電プローブを利用する方法
2.3 質量分析による方法
2.4 クーロン結晶の利用
3.ダストのモニタリングと解析
3.1 ダスト発生の解析
3.2 ダスト成長の解析
3.3 ダスト挙動の解析
4.プラズマ中のダストの制御
4.1 ダスト発生・成長の制御
4.2 ダスト輸送の制御
5.今後の展望
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