半導体

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SOI CMOSデバイスの基礎と応用

販売価格(税込): 35,200
■体裁:A4版113ページ
■発刊:1999/10/28
■ISBNコード:4-89808-018-9
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ULSI製造における汚染の実態

販売価格(税込): 57,200
■体裁:A4版475ページ
■発刊:1999/07/28
■ISBNコード:4-89808-017-0
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高性能半導体プロセス用分析・評価技術

販売価格(税込): 31,900
■体裁:B5版233ページ
■発刊:1992/05/28
■ISBNコード:4-947655-53-4
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半導体デバイス界面の汚染・損傷の評価と対策

販売価格(税込): 49,500
■体裁:B5版222ページ
■発刊:1992/02/28
■ISBNコード:4-947655-50-X
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超高純度ガスの科学2 データ編

販売価格(税込): 60,500
■体裁:B5版634頁
■発刊:1994/04/28
■ISBNコード:4-947655-67-4
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超高純度ガスの科学1 コンセプト編

販売価格(税込): 56,100
■体裁:B5版367ページ
■発刊:1993/12/28
■ISBNコード:4-947655-64-X
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極薄シリコン酸化膜の形成と界面評価技術

販売価格(税込): 31,900
■体裁:A4版144ページ
■発刊:1997/01/28
■ISBNコード:4-947655-95-X
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ガスサイエンスが拓くプロタクト・イノベーション

販売価格(税込): 5,500
■体裁:A5版362ページ
■発刊:1996/01/28
■ISBNコード:4-947655-81-X
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低消費電力、高速LSI技術

販売価格(税込): 61,600
■体裁:A4版560ページ
■発刊:1998/01/28
■ISBNコード:4-89808-004-9
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半導体製造におけるクローズドシステム

販売価格(税込): 27,500
■体裁:B5版283ページ
■発刊:1991/11/28
■ISBNコード:4-947655-47-X

半導体製造のためのClosed Manufacturing System
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Cu配線技術の最新の展開

販売価格(税込): 41,800
■体裁:A4版257ページ
■発刊:1998/05/28
■ISBNコード:4-89808-008-1
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シリコン熱酸化膜とその界面

販売価格(税込): 71,500
■体裁:B5版422ページ
■発刊:1991/07/28
■ISBNコード:4-947655-44-5
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[第3版]半導体材料・デバイスの評価 ―パラメータ測定と解析評価の実際―

販売価格(税込): 27,500
■体裁:A5判, 583ページ
■発刊:2012/5
■ISBNコード:978-4-7813-0479-3
■シーエムシー出版
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電子ペーパーの最新技術動向と応用展開

販売価格(税込): 66,000
■体裁:B5判,201ページ
■発刊:2011/3
■ISBNコード:978-4-7813-0317-8
■シーエムシー出版
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半導体封止レポート (レポート+CD)

販売価格(税込): 330,000
■体裁:A4判、127ページ
■発刊:2009/06
■ISBNコード:
■ジャパンマーケティングサーベイ

※CDはレポートの内容をPDF化したものです。
CDからの印刷及びデータの複製はできません。
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