出版図書

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ナノインプリントにおける離型問題の評価とその対策

販売価格(税込): 30,800
■体裁:A4版/80頁
■発刊:2010/05/20
■ISBNコード:978-4-89808-105-1

Technology Directionシリーズ
数量:

ULSI製造における汚染の実態

販売価格(税込): 57,200
■体裁:A4版475ページ
■発刊:1999/07/28
■ISBNコード:4-89808-017-0
数量:

高分子表面・界面分析法の新展開

販売価格(税込): 77,000
■体裁: B5判、394ページ
■発刊:2009/03
■ISBNコード: 978-4-7813-0103-7
■シーエムシー出版
数量:

先端ガラスの産業応用と新しい加工

販売価格(税込): 71,500
■体裁: B5判、334ページ
■発刊:2009/08
■ISBNコード: 978-4-7813-0152-5
■シーエムシー出版
数量:

高性能半導体プロセス用分析・評価技術

販売価格(税込): 31,900
■体裁:B5版233ページ
■発刊:1992/05/28
■ISBNコード:4-947655-53-4
数量:

半導体デバイス界面の汚染・損傷の評価と対策

販売価格(税込): 49,500
■体裁:B5版222ページ
■発刊:1992/02/28
■ISBNコード:4-947655-50-X
数量:

超高純度ガスの科学2 データ編

販売価格(税込): 60,500
■体裁:B5版634頁
■発刊:1994/04/28
■ISBNコード:4-947655-67-4
数量:

超高純度ガスの科学1 コンセプト編

販売価格(税込): 56,100
■体裁:B5版367ページ
■発刊:1993/12/28
■ISBNコード:4-947655-64-X
数量:

CO2削減に向けた次世代エネルギー技術ハンドブック

販売価格(税込): 52,800
■発刊:2001/05/31
■ISBNコード:4-89808-030-8
数量:

極薄シリコン酸化膜の形成と界面評価技術

販売価格(税込): 31,900
■体裁:A4版144ページ
■発刊:1997/01/28
■ISBNコード:4-947655-95-X
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ガスサイエンスが拓くプロタクト・イノベーション

販売価格(税込): 5,500
■体裁:A5版362ページ
■発刊:1996/01/28
■ISBNコード:4-947655-81-X
数量:

低消費電力、高速LSI技術

販売価格(税込): 61,600
■体裁:A4版560ページ
■発刊:1998/01/28
■ISBNコード:4-89808-004-9
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半導体製造におけるクローズドシステム

販売価格(税込): 27,500
■体裁:B5版283ページ
■発刊:1991/11/28
■ISBNコード:4-947655-47-X

半導体製造のためのClosed Manufacturing System
数量:

Cu配線技術の最新の展開

販売価格(税込): 41,800
■体裁:A4版257ページ
■発刊:1998/05/28
■ISBNコード:4-89808-008-1
数量:

シリコン熱酸化膜とその界面

販売価格(税込): 71,500
■体裁:B5版422ページ
■発刊:1991/07/28
■ISBNコード:4-947655-44-5
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